VTC-16-3HD是一款紧凑型CE认证的等离子薄膜溅射仪（直流普通型），基片Z大尺寸2英寸，加热温度为500度和控制面板为触摸屏模式。它可以溅射三种类型的靶材...

直流等离子磁控溅射镀膜仪是一款小型的直流（DC）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC电源、2英寸的磁控溅射头、石...

射频等离子磁控溅射镀膜仪是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2“的磁控溅射头...

MSK-AFA-L800是一款800mm长的流延式涂覆机，含真空吸盘和无油真空泵，配合微米级可调式刮刀可制作长的厚膜。具有*的自动推进装置，可以在180mm宽度...

双靶磁控溅射仪是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材...

GSL-1800X-SBC2是为扫描电镜和电子揉针等进行试验制备的设备，可进行真空蒸碳、真空镀膜和离子溅射，它也可以在高纯氢气保护下进行等离子处理。对于实验室此...

Se-KTQ-150D是一款双刮刀的可调制膜器，由于有两个刮刀所以涂覆效果会更加均匀。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙，此工具特别适合实验室制...

可调制膜器-这是一款*的湿法制膜工具，可通过千分尺调节制膜厚度。操作者可通过千分尺来调节刮刀与所涂覆平面之间的间隙，此工具特别适合实验室制作电池电极，陶瓷膜前期...

MSK-AFA-II-VC是一款通过CE认证的自动涂覆机，用千分尺调节以达到所要涂覆的薄膜厚度。仪器采用真空吸附来固定衬底，使得涂敷过程中衬底不会起褶皱，从而使...

VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪，针对于高通量MGI（材料基因组计划）薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料，通过5种元素，按16种不同配比...

MSK-NFES-3C静电纺丝机（静电纺丝）可应用于生物高分子、通用高分子、预聚体纳米纤维制备，高分子共混物纳米纤维的制备，具有纳米孔洞、纳米颗粒、纳米珠串结构...

VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台，外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶...

VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空...

EQ-TM106膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理，结合*的频率测量技术，进行膜厚的在线监测。主要应用于MBE、OLED热蒸发、磁控溅射等设备的薄膜制备过程中，对...

VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧...

MSK-AFA-E300 连续式实验型自动涂布机是科晶集团研制的一款专门用于箔材表面涂敷的自动化设备。采用PLC（日本松下）与人机（威纶）控制系统，人性化的中英...

OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸发管式炉，专门针对于用PVD或CSS法来制作薄膜。此款管式炉炉管直径为11" OD，炉管内载样盘可放置3" 的圆形或...

小型磁控射频溅射镀膜仪是一款小型台式单靶等离子溅射仪（射频磁控型），配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是...

高真空蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀一些对氧较敏感的金属膜，如Ti, Al 和Au等，也可蒸镀各种氧化物材料。此款蒸镀仪安装有4个蒸镀加热头.对于实验研究，这是一款镀...

小型蒸镀仪是一款小型真空镀膜仪，特别适合蒸镀一些轻金属，如 Al. Mg, 和Li等。同时也可对样品进行镀碳处理，Z大可处理的样品直径为50mm.。